现代高纯气体制取，分析与安全使用

定　　价：108 元

• 作者：尹恩华著
• 出版时间：2015/7/1
• ISBN：9787030449672
• 出 版 社：科学出版社

• 中图法分类：TQ116 
• 页码：344
• 纸张：胶版纸
• 版次：1
• 开本：16K

内容简介

　　《现代高纯气体：制取、分析与安全使用》从高纯气体与集成电路等的关系说明气体纯度的重要性。集成电路的制造包括成膜、刻蚀、掺杂和注入、平衡及清洗等，各流程无不需要各种高纯气体。高纯气体的制取是《现代高纯气体：制取、分析与安全使用》的核心。《现代高纯气体：制取、分析与安全使用》介绍国内外最新文献，包括：吸附、精馏、离子液体、贮氢材料、钯扩散、熔体合金、膜分离、吸杂剂、多级离心和制备色谱等新技术。除了气相色谱是高纯气体分析的主体外，《现代高纯气体：制取、分析与安全使用》介绍最新光谱、质谱和纳米技术在高纯气体中杂质分析的应用。考虑高纯气体绝大部分都是易燃易爆和剧毒气体，使用的安全措施尤为重要，故《现代高纯气体：制取、分析与安全使用》还介绍了容器、介质、传感器和废气的节能减排等相关知识。

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文 摘

　　《现代高纯气体制取、分析与安全使用》：
　　第一章 高纯气体与电子学的关系
　　第一节 高纯气的分类和应用
　　1、前言
　　不同的国家和地区在界定气体的外界条件时，由于科学技术发展状况不同，历史渊源的差异，以及研究的目的、出发点相异，很难求得统一，至今各国还没有一个统一的标准。在压力为1.013bar，温度为20℃时，或者在50℃时蒸汽压超过3bar时的任何物质。这是ISO/FDIS11622：2005对气体的界定。用温度和压力两个状态参数就可确定物质的相态，尽管不同国家和地区对气体的界定温度不同，但压力基本相同。
　　气体作为重要产品，只有到了上世纪60～70年（以集成电路出现为准）代后，才初显其重要性，那时的半导体物理学家要求化学家提供特纯气体，一句话——越纯越好，这就是说分析检测的灵敏度要到“极限”，按目前说法是7N以上的纯度，或更高。
　　大规模集成电路已经进入到32/22nm时代。现在微米芯片和亚微米芯片生产已经成熟，准纳米芯片（Quasi-nanochip）的生产和研究正在加速前进。莫尔（Moore）定律将远远超过纯硅CMOS时代，继续支配纳米芯片和亚纳米芯片（Sub-nanoscaleintegrated，SNSI）的发展。半导体的特征尺寸完全遵守莫尔定律（每18个月性能提高一倍，价格降低一半）的发展，目前对这个时间可以估计到2022年（图1.1）。
　　图1.1莫尔（Moore）定律例证
　　图1.1为莫尔（Moore）定律从1900年的机械→集成电路关于计算运算速度（次/秒）到2022年的预测，与此对应的光刻发展情况见图1.2。