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纳米层状二硫化钼制备与应用

纳米层状二硫化钼制备与应用

定  价:88 元

        

  • 作者:王快社,杨帆,胡平
  • 出版时间:2025/3/1
  • ISBN:9787030811363
  • 出 版 社:科学出版社
  • 中图法分类:TB383 
  • 页码:129
  • 纸张:
  • 版次:1
  • 开本:B5
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读者对象:从事纳米层状功能材料领域的科研人员、高等学校教师,相关企业工程技术人员,纳米材料、功能材料及相关专业本科生和研究生

本书介绍了作者团队近年来在纳米层状二硫化钼“氧化插层-爆炸/还原”和锂离子插层剥离新技术及其合成机理方面的研究工作。团队系统研究了纳米层状二硫化钼的可控制备,解决了其剥离效率低的难题,建立了二硫化钼氧化插层分子结构演变模型,揭示了插层二硫化钼爆炸及还原剥离机理,并提出了高密度催化位点、高电荷转移效率协同提高催化析氢性能新方法。本书共6章,内容包括:纳米层状二硫化钼材料研究进展和发展趋势、插层-爆炸法剥离制备纳米层状二硫化钼、插层-还原法剥离制备纳米层状二硫化钼、纳米层状二硫化钼复合材料电催化析氢性能、纳米层状二硫化钼复合材料磁性能、锂离子插层法剥离制备纳米多孔二硫化钼基复合材料。

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